标题 |
![]() 高Al含量AlGaN缓冲层对硅基GaN材料性能的影响
相关领域
材料科学
外延
金属有机气相外延
光电子学
图层(电子)
薄脆饼
化学气相沉积
硅
晶格常数
位错
复合材料
衍射
光学
物理
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Physica Status Solidi A-applications and Materials Science 作者:Yuqi Liu; Kai Wang; Zuorong Nie; Hong Wang 出版日期:2023-11-12 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|