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 ATOMIC LAYER DEPOSITION OF ALUMINUM-MOLYBDENUM OXIDE FILMS USING TRIMETHYLALUMINUM AND MOLYBDENUM DICHLORIDE DIOXIDE 相关领域
原子层沉积
石英晶体微天平
沉积（地质）
材料科学
无定形固体
无机化学
氧化物
钼
图层（电子）
薄膜
化学气相沉积
表面粗糙度
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分析化学（期刊）
氧化钼
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化学
化学工程
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X射线晶体学
均方根
晶体生长
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晶体结构
Crystal（编程语言）
单层
脉冲激光沉积
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| DOI |
10.7868/s3034560x25110224
doi
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| 其它 |
期刊：Журнал неорганической химии / Russian Journal of Inorganic Chemistry 作者：A.M. Maksumova; I.S. Bodalev; S.S. Etmisheva; A.V. Koroleva; M.G. Shtancheva; et al 出版日期：2026-02-27 |
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(2025-6-4)
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