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 Selective dry etching of silicon with heat-mode resist GeSb for the preparation of metasurfaces 相关领域
抵抗
材料科学
干法蚀刻
硅
蚀刻（微加工）
反应离子刻蚀
纳米技术
光刻胶
光电子学
图层（电子）
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Xu Zeng; Kui Zhang; Jingsong Wei; Jiahao Chi; Haolin Dai; et al 出版日期：2024-08-08 |
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