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 Phase-shifting interferometry measure stress of HfO2/SiO2 anti-reflector multi-layer deposited with ion-assisted deposition 相移干涉法测量离子辅助沉积HfO2/SiO2多层抗反射膜的应力
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材料科学
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期刊： 作者：H. Pin Kao; Hsi-Chao Chen; Shengbin Chen; Tan-Fu Liu; Bo-Huei Liao; et al 出版日期：2023-09-20 |
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