Fabrication of a wider bandgap θ-Al2O3 by oxidation of ultrathin AlN films for leakage current reduction - 科研通

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标题	Fabrication of a wider bandgap θ-Al2O3 by oxidation of ultrathin AlN films for leakage current reduction 氧化超薄膜AlN制备宽带隙θ-Al2O3以降低漏电流相关领域材料科学制作带隙铝泄漏（经济）氮化物光电子学原子层沉积薄膜氧化物残余应力氧化铝宽禁带半导体图层（电子）纳米技术复合材料冶金经济替代医学病理宏观经济学医学
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad1c9f
DOI	10.35848/1347-4065/ad1c9f doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Yusuke NAKAJIMA; Akira Takashima; Masaki Noguchi; Tatsunori Isogai 出版日期：2024-02-16
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