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 Antimony‐Oxo‐Cluster‐Based Polymers as Positive‐Tone EBL/EUV Photoresists: Lithography Performance Enhancement by Network Structure Modulation 锑氧簇基聚合物作为正色调EBL/EUV光致抗蚀剂：通过网络结构调制提高光刻性能
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期刊：Advanced materials and technologies 作者：Zeqi Yu; Siming Qi; Zuohu Zhou; Jian Wei; Zhen Ni; et al 出版日期：2025-09-18 |
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