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 Surface reactions during low-k etching using H2∕N2 plasma 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Masanaga Fukasawa; Tetsuya Tatsumi; Keiji Oshima; Kazunori Nagahata; Saburo Uchida; et al 出版日期：2008-07-01 |
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