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 Electron beam injection from a hollow cathode plasma into a downstream reactive environment: Characterization of secondary plasma production and Si3N4 and Si etching 电子束从空心阴极等离子体注入下游反应环境：二次等离子体产生和Si3N4和Si蚀刻的表征
相关领域
原子物理学
等离子体
电子回旋共振
电子
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化学
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Chen Li; Valery Godyak; Thorsten Hofmann; Klaus Edinger; G. S. Oehrlein 出版日期：2020-03-06 |
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