Enhancing the Polishing Efficiency of CeO2 Abrasives on the SiO2 Substrates by Improving the Ce3+ Concentration on Their Surface

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标题	Enhancing the Polishing Efficiency of CeO2 Abrasives on the SiO2 Substrates by Improving the Ce3+ Concentration on Their Surface
网址	https://doi.org/10.1021/acsaelm.2c01553
DOI	10.1021/acsaelm.2c01553 doi
其它	期刊：ACS applied electronic materials 作者：Jiahui Ma; Ning Xu; Yuxin Luo; Yu Lin; Yongping Pu 出版日期：2022-12-28
求助人	加油在 2026-07-14 14:13:05 发布自广东，悬赏 10 积分
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