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  Effects of plasma gas interface processing on ferroelectric property of TiN/Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 /TiN ferroelectric device 相关领域
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期刊：High Temperature Materials and Processes 作者：Zhenhua Wang; Jingwen Hou; Zewen Li; Yuchan Wang; Fang Wang; et al 出版日期：2026-02-19 |
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