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Role of N2 during chemical dry etching of silicon oxide layers using NF3/N2/Ar remote plasmas |
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期刊:Microelectronic Engineering 作者:D.J. Kim; Y.B. Yun; J.Y. Hwang; N.-E. Lee; K.S. Kim; G.H. Bae 出版日期:2007 |
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(2025-6-4)