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Denuded Zone Formation by High Temperature Inert Anneal of 300 mm Cz-Silicon Wafers : AEPM: Advanced Equipment, Processes and Materials
相关领域
薄脆饼 材料科学 硅 惰性 退火（玻璃） 光电子学 工程物理 复合材料 化学 工程类 有机化学
网址
https://doi.org/10.1109/asmc64512.2025.11010435
DOI
10.1109/asmc64512.2025.11010435 doi
其它 期刊：
作者：Olaf Storbeck; D. Oriwol; Jan Rittmeyer; Astrid Kretzschmar; Anthony Klee; et al
出版日期：2025-05-05
求助人
车车 在 2025-11-26 13:57:07 发布自陕西，悬赏 10 积分
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