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Difference Between Atomic Layer Deposition TiAl and Physical Vapor Deposition TiAl in Threshold Voltage Tuning for Metal Gated NMOSFETs
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网址
https://doi.org/10.1109/led.2021.3124801
DOI
10.1109/led.2021.3124801 doi
其它 期刊：IEEE Electron Device Letters
作者：Zhao-Yang Li; Xuejiao Wang; Han-Lun Cai; Zhao-Zhang Yan; Yu-Long Jiang; et al
出版日期：2021-11-02
求助人
mhy 在 2026-01-14 13:12:18 发布自江苏，悬赏 10 积分
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