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Cobalt CMP Development for 7nm Logic Device 用于7nm逻辑器件的钴CMP开发
相关领域
钴
材料科学
泥浆
钨
化学机械平面化
冶金
抛光
蚀刻(微加工)
复合材料
图层(电子)
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期刊:ECS Meeting Abstracts 作者:Changhong Wu; Ja-Hyung Han; Xingzhao Shi; Dinesh Koli; Dinesh Penigalapati 出版日期:2017-04-15 |
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