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 Cobalt CMP Development for 7nm Logic Device 用于7nm逻辑器件的钴CMP开发
相关领域
钴
材料科学
泥浆
钨
化学机械平面化
冶金
抛光
蚀刻（微加工）
复合材料
图层（电子）
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期刊：ECS Meeting Abstracts 作者：Changhong Wu; Ja-Hyung Han; Xingzhao Shi; Dinesh Koli; Dinesh Penigalapati 出版日期：2017-04-15 |
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