The mechanism for the suppression of leakage current in high dielectric TiO2 thin films by adopting ultra-thin HfO2 films for memory application

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标题	The mechanism for the suppression of leakage current in high dielectric TiO2 thin films by adopting ultra-thin HfO2 films for memory application
网址	https://pubs.aip.org/aip/jap/article-pdf/doi/10.1063/1.36055...
DOI	10.1063/1.3605527 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Minha Seo; Sang Ho Rha; Seong Keun Kim; Jeong Hwan Han; Woongkyu Lee; et al 出版日期：2011-07-21
求助人	Lijia_YAO 在 2026-05-12 17:16:43 发布自安徽，悬赏 10 积分
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