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Low damage atomic layer etching technology for gate recessed fabrication 用于栅极凹槽制造的低损伤原子层刻蚀技术
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期刊:Vacuum 作者:Jie-He Guo; Wei Ke; Shengli Zhang; Xin He; Yan Zhang; et al 出版日期:2023-09-07 |
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