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标题
In Situ H-Radical Surface Treatment on Aluminum Gallium Nitride for High-Performance Aluminum Gallium Nitride/Gallium Nitride MIS-HEMTs Fabrication
用于高性能氮化铝镓/氮化镓MIS-HEMTs制备的氮化铝镓原位H自由基表面处理
相关领域
材料科学 氮化镓 光电子学 高电子迁移率晶体管 氮化物 制作 铝 镓 复合材料 冶金 电压 电气工程 晶体管 图层（电子） 替代医学 病理 工程类 医学
网址
https://www.mdpi.com/2072-666X/14/7/1278/pdf?version=1687349...
AI链接 mdpi.com mdpi.com nih.gov nih.gov nih.gov doaj.orgdoi.org
DOI
10.3390/mi14071278 doi
其它 期刊：Micromachines
作者：Yannan Yang; Rong Fan; Penghao Zhang; Luyu Wang; Maolin Pan; et al
出版日期：2023-06-21
求助人
LDWV 在 2025-12-05 18:33:24 发布自贵州，悬赏 10 积分
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