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 Characteristics of β-Gallium Oxide Sputtering Etching by Focused Gallium Ion Beam in the Micro-Nano Scale Fabrication 聚焦镓离子束溅射刻蚀β-氧化镓在微纳尺度上的特性
相关领域
镓
溅射
氧化物
材料科学
物理
纳米技术
冶金
薄膜
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期刊：Sensors and Actuators A Physical 作者：Xi Chen; Yunzhong Chen; Xi Lin; Yan Xing 出版日期：2024-11-01 |
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