Characteristics of β-Gallium Oxide Sputtering Etching by Focused Gallium Ion Beam in the Micro-Nano Scale Fabrication

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标题	Characteristics of β-Gallium Oxide Sputtering Etching by Focused Gallium Ion Beam in the Micro-Nano Scale Fabrication 聚焦镓离子束溅射刻蚀β-氧化镓在微纳尺度上的特性相关领域镓溅射氧化物材料科学物理纳米技术冶金薄膜
网址	https://doi.org/10.1016/j.sna.2024.116071
DOI	10.1016/j.sna.2024.116071 doi
其它	期刊：Sensors and Actuators A Physical 作者：Xi Chen; Yunzhong Chen; Xi Lin; Yan Xing 出版日期：2024-11-01
求助人	xiaoxiao 在 2025-08-25 16:58:25 发布，悬赏 10 积分
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