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 No‐Heating Deposition of 1‐μm‐Thick Y‐Doped HfO2 Ferroelectric Films with Good Ferroelectric and Piezoelectric Properties by Radio Frequency Magnetron Sputtering Method 射频磁控溅射法无加热沉积具有良好铁电和压电性能的1 μ m厚Y掺杂HfO2铁电薄膜
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期刊：Physica Status Solidi (rrl) 作者：Reijiro Shimura; Takanori Mimura; Akinori Tateyama; Takahisa Shiraishi; Takao Shimizu; et al 出版日期：2022-01-14 |
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