Chemical vapour deposition of silicon under reduced pressure in a hot-wall reactor: Equilibrium and kinetics

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标题	Chemical vapour deposition of silicon under reduced pressure in a hot-wall reactor: Equilibrium and kinetics
网址	http://dx.doi.org/10.1016/0022-0248(82)90051-3
DOI	10.1016/0022-0248(82)90051-3 doi
其它	期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Francis Langlais; François Hottier; Robert Cadoret 出版日期：1982-02-01
求助人	manying 在 2026-09-19 15:07:47 发布自天津，悬赏 10 积分
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