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Effect of post-deposition annealing on atomic layer deposited SiO2 film for silicon surface passivation |
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期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:Shizheng Li; Jiahui Xu; Liangxing Wang; N. Yang; Xiao-Jun Ye; et al 出版日期:2020-02-01 |
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(2025-6-4)