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Critical pattern selection method for full-chip source and mask optimization |
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| DOI |
10.1364/oe.396362
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期刊:Optics Express 作者:Lu-Feng Liao; Sikun Li; Xiang-Zhao Wang; Li-Bin Zhang; Peng-Zheng Gao; et al 出版日期:2020-07-06 |
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(2025-6-4)