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标题
Process for high rate deposition of Al2O3
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DOI
10.1016/0040-6090(89)90528-2 doi
其它 期刊:Thin Solid Films
作者:T.D Schemmel; R.L Cunningham; H Randhawa
出版日期:2002-10-19
求助人
妮妮 在 2026-04-19 19:09:13 发布自根西岛,悬赏 10 积分
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