Polyurea films deposited by molecular layer deposition for surface and sidewall passivation during HF plasma etching of high-aspect-ratio structures

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标题	Polyurea films deposited by molecular layer deposition for surface and sidewall passivation during HF plasma etching of high-aspect-ratio structures
网址	http://dx.doi.org/10.1116/6.0005703
DOI	10.1116/6.0005703 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Wallis E. Scholl; Xue Wang; Andrew P. Kaye; Mingmei Wang; Wenyu Zhang; et al 出版日期：2026-10-16
求助人	waye131 在 2026-10-20 11:01:29 发布自上海，悬赏 10 积分
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