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 Effects of pressure and slurry on removal mechanism during the chemical mechanical polishing of quartz glass using ReaxFF MD 压力和浆料对ReaxFF MD化学机械抛光石英玻璃去除机理的影响
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石英
抛光
化学机械平面化
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期刊：Applied Surface Science 作者：Xiaoguang Guo; Song Yuan; Junxin Huang; Chong Chen; Renke Kang; et al 出版日期：2019-11-23 |
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