Effects of pressure and slurry on removal mechanism during the chemical mechanical polishing of quartz glass using ReaxFF MD

雷亚克夫 石英 抛光 化学机械平面化 吸附 离解(化学) 水溶液 化学 化学工程 磨料 泥浆 材料科学 复合材料 物理化学 分子 有机化学 氢键 工程类
作者
Xiaoguang Guo,Song Yuan,Junxin Huang,Chong Chen,Renke Kang,Zhuji Jin,Dongming Guo
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:505: 144610-144610 被引量:54
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2019.144610
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