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 Study of ferroelectric characteristics of Hf0.5Zr0.5O2 thin films grown on sputtered or atomic-layer-deposited TiN bottom electrodes 溅射或原子层沉积TiN底电极上生长的Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的铁电特性研究
相关领域
锡
原子层沉积
材料科学
铁电性
溅射
薄膜
电极
图层（电子）
物理气相沉积
化学气相沉积
冶金
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化学
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物理化学
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Beom Yong Kim; Baek Su Kim; Seung Dam Hyun; Ho Hyun Kim; Yong Bin Lee; et al 出版日期：2020-07-13 |
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