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  Consequences of low bias frequencies in inductively coupled plasmas on ion angular distributions for high aspect ratio plasma etching 电感耦合等离子体中低偏置频率对高纵横比等离子体刻蚀离子角分布的影响
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：E. K. Litch; Hyunjae Lee; Sang Ki Nam; Mark J. Kushner 出版日期：2025-03-10 |
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