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Understanding plasma enhanced chemical vapor deposition mechanisms in tetraethoxysilane-based plasma
四乙氧基硅烷等离子体增强化学气相沉积机理的研究
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网址
https://doi.org/10.1116/6.0002409
DOI
10.1116/6.0002409 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science and technology
作者：Li Hu; Koichi Ishii; Shun Sasaki; Mao Kamiyama; Akinori Oda; et al
出版日期：2023-03-01
求助人
XIADING 在 2025-12-02 09:54:20 发布自陕西，悬赏 10 积分
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