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Selective ablation of thin SiO2 layers on silicon substrates by femto- and picosecond laser pulses 飞秒和皮秒激光脉冲选择性烧蚀硅衬底上SiO2薄层
相关领域
通量
烧蚀
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期刊:Applied Physics A 作者:Tino Rublack; Stefan Hartnauer; P. Kappe; C. Swiatkowski; G. Seifert 出版日期:2011-03-08 |
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