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 Selective ablation of thin SiO2 layers on silicon substrates by femto- and picosecond laser pulses 飞秒和皮秒激光脉冲选择性烧蚀硅衬底上SiO2薄层
相关领域
通量
烧蚀
材料科学
薄脆饼
脉冲持续时间
激光器
皮秒
硅
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激光烧蚀
光学
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物理
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工程类
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期刊：Applied Physics A 作者：Tino Rublack; Stefan Hartnauer; P. Kappe; C. Swiatkowski; G. Seifert 出版日期：2011-03-08 |
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