Novel sulfonylimide photo-acid generators for deep ultraviolet photoresist with improved acid diffusion inhibition performance through retarding the anion diffusion

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标题	Novel sulfonylimide photo-acid generators for deep ultraviolet photoresist with improved acid diffusion inhibition performance through retarding the anion diffusion 相关领域化学光刻胶扩散紫外线离子光化学化学工程光电子学有机化学热力学物理工程类图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.jphotochem.2025.116279
DOI	10.1016/j.jphotochem.2025.116279 doi
其它	期刊：Journal of Photochemistry and Photobiology A-chemistry 作者：Guangju Liu; Na Li; Xiang Gao 出版日期：2025-01-20
求助人	蒙杜木古在 2026-01-05 08:27:27 发布自青海，悬赏 10 积分
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