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 Computer Modeling of Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of HfO2 and ZrO2 等离子体增强HfO2和ZrO2原子层沉积的计算机模拟
相关领域
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期刊：Russian Microelectronics 作者：Sergey Zyuzin; E. A. Ganykina; Askar Rezvanov; Ya. G. Zasseev; V. A. Gvozdev; et al 出版日期：2023-12-01 |
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