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标题
Contact hole patterning performance of ArF resist for 0.10 μm technology node
0.10 μ m工艺节点ArF抗蚀剂的接触孔图案化性能
相关领域
抵抗 平版印刷术 材料科学 焦点深度（构造） 纳米技术 制作 表面粗糙度 光刻 浸没式光刻 光电子学 光刻胶 光学 复合材料 图层（电子） 病理 古生物学 物理 生物 构造学 医学 替代医学 俯冲
网址
https://doi.org/10.1117/12.474258
DOI
10.1117/12.474258 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：Jin‐Soo Kim; Jae Chang Jung; Keun-Kyu Kong; Geunsu Lee; Sung‐Koo Lee; et al
出版日期：2002-07-15
求助人
虚幻的绫 在 2025-10-27 08:49:40 发布自湖北，悬赏 20 积分
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