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 Comparing positive and negative tone development process for printing the metal and contact layers of the 32- and 22-nm nodes 比较用于印刷32纳米和22纳米节点的金属和接触层的正色调和负色调显影工艺
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期刊：Journal of Micro-nanolithography Mems and Moems 作者：Joost Bekaert; Lieve Van Look; V. Truffert; Frederic Lazzarino; Geert Vandenberghe; et al 出版日期：2010-10-01 |
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