| 标题 |
 Study of CF4, C2F6, SF6 and NF3 Decomposition Characteristics and Etching Performance in Plasma State 相关领域
分解
等离子体
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蚀刻（微加工）
化学
化学气相沉积
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Kunihiko Koike; Tatsuo Fukuda; Shizuichi Fujikawa; M. Saeda 出版日期：1997-09-01 |
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