Understanding the role of rf-power on AlN film properties in hollow-cathode plasma-assisted atomic layer deposition

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标题	Understanding the role of rf-power on AlN film properties in hollow-cathode plasma-assisted atomic layer deposition
网址	https://doi.org/10.1116/1.5128663
DOI	10.1116/1.5128663 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Saidjafarzoda Ilhom; Deepa Shukla; Adnan Mohammad; John Grasso; Brian G. Willis; et al 出版日期：2020-01-14
求助人	欣喜亚男在 2026-07-27 14:26:58 发布自山东，悬赏 10 积分
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