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Electrical properties of V2O5 thin films obtained by atomic layer deposition (ALD)
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DOI
10.1039/b410324f doi
其它 期刊:Journal of Materials Chemistry
作者:J. C. Badot; A. Mantoux; N. Baffier; O. Dubrunfaut; D. Lincot
出版日期:2004-11-24
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积极问晴 在 2026-08-22 09:47:54 发布自云南,悬赏 10 积分
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