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Optimization of process parameters to control diameter fluctuation during the monocrystalline silicon growth by hybrid neural network model and genetic algorithm
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DOI
10.1016/j.jcrysgro.2025.128345 doi
其它 期刊:Journal of Crystal Growth
作者:Jun Xiao; Qitao Zhang; Tai Li; Peilin He; Yuwei Wang; et al
出版日期:2025-11-01
求助人
Lee 在 2026-07-29 10:37:47 发布自浙江,悬赏 10 积分
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