Integration of atomic layer deposited high-k dielectrics on GaSb via hydrogen plasma exposure

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标题	Integration of atomic layer deposited high-k dielectrics on GaSb via hydrogen plasma exposure
网址	https://pubs.aip.org/aip/adv/article-pdf/doi/10.1063/1.49054...
DOI	10.1063/1.4905452 doi
其它	期刊：AIP Advances 作者：Laura B. Ruppalt; Erin R. Cleveland; James G. Champlain; Brian R. Bennett; Sharka M. Prokes 出版日期：2014-12-31
求助人	ws 在 2026-08-25 15:35:58 发布自天津，悬赏 10 积分
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