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标题
Pressure-regulated oxidation–removal behavior of 4H-SiC during KMnO4-based chemical mechanical polishing: first-principles and experimental insights
相关领域
材料科学 复合材料 纳米技术 工作（物理） 热力学 实验数据 材料试验 化学工程 冶金 材料性能
网址
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S027288422...
DOI
10.1016/j.ceramint.2026.10.080 doi
其它 期刊：Ceramics International
作者：Keng-Ming Huang; Xin Song; Shi-Ze Cheng; Zhi-Gang Dong; Zhi-Jun Chen
出版日期：2026-10-01
求助人
sundial 在 2026-11-09 10:51:47 发布自江苏，悬赏 10 积分
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