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 Synthesis of End-Cap Enabled Self-Immolative Photoresists For Extreme Ultraviolet Lithography 用于极紫外光刻的端盖自毁光刻胶的合成
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期刊：ACS Macro Letters 作者：Jingyuan Deng; Sean Bailey; Ruiwen Ai; Anthony Delmonico; Gregory Denbeaux; et al 出版日期：2022-08-10 |
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