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Prediction of the surface roughness and material removal rate in chemical mechanical polishing of single-crystal SiC via a back-propagation neural network 基于反向传播神经网络的单晶SiC化学机械抛光表面粗糙度和材料去除率预测
相关领域
抛光
磨料
化学机械平面化
材料科学
表面粗糙度
粒子(生态学)
粒径
Crystal(编程语言)
表面光洁度
复合材料
冶金
化学工程
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地质学
工程类
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期刊:Precision Engineering 作者:Jiayun Deng; Qixiang Zhang; Jiabin Lu; Qiusheng Yan; Jisheng Pan; et al 出版日期:2021-04-24 |
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