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 Implementation of a robust virtual metrology for plasma etching through effective variable selection and recursive update technology 相关领域
计量学
半导体器件制造
等离子体刻蚀
蚀刻（微加工）
临界尺寸
计算机科学
灵敏度（控制系统）
过程（计算）
等离子清洗
等离子体
材料科学
电子工程
工程类
纳米技术
薄脆饼
物理
光学
操作系统
量子力学
图层（电子）
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Kye Hyun Baek; Ki-Wook Song; Chonghun Han; Gil-Heyun Choi; Han Ku Cho; et al 出版日期：2014-01-01 |
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