Selective etch process for fab-compatible top contacts, replacement oxide, and interlayer removal in 2D FETs

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标题	Selective etch process for fab-compatible top contacts, replacement oxide, and interlayer removal in 2D FETs
网址	https://doi.org/10.1109/IEDM50572.2025.11353796
DOI	10.1109/IEDM50572.2025.11353796 doi
其它	期刊：2025 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) 作者：Q. Smets; T. Schram; D. van Dorp; Y. Jiang; A. Opdebeeck; et al 出版日期：2025
求助人	stop here 在 2026-04-09 15:10:05 发布自湖南，悬赏 10 积分
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