Effect of O2 dilution and substrate temperature on the etching of SiNx in a C4F6/Ar plasma

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标题	Effect of O2 dilution and substrate temperature on the etching of SiNx in a C4F6/Ar plasma
网址	https://doi.org/10.1116/6.0004777
DOI	10.1116/6.0004777 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Xue Wang; Eric A. Hudson; Prabhat Kumar; Sumit Agarwal 出版日期：2025-09-01
求助人	JZAUA 在 2026-07-03 14:44:01 发布自上海，悬赏 10 积分
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