| 标题 |
RF-Sputtered Ti-Based Dielectric Layers as Al-Diffusion Barrier for Passivating Contacts |
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| DOI |
10.52825/siliconpv.v2i.1303
doi
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期刊:SiliconPV Conference Proceedings 作者:Benjamin Gapp; Heiko Plagwitz; Giso Hahn; Barbara Terheiden 出版日期:2024-12-07 |
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(2025-6-4)