Sub‐10‐nm Lithography for Sn4–Oxo Clusters: Effect of Molecular Polarity on Sensitivity and Resolution

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标题	Sub‐10‐nm Lithography for Sn4–Oxo Clusters: Effect of Molecular Polarity on Sensitivity and Resolution
网址	https://doi.org/10.1002/adfm.202423957
DOI	10.1002/adfm.202423957 doi
其它	期刊：Advanced Functional Materials 作者：Yingdong Zhao; Riyao Cong; Zijian Chen; Jun Zhao; Pengzhong Chen; et al 出版日期：2025-04-07
求助人	樊珩在 2026-08-10 01:07:43 发布自上海，悬赏 10 积分
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