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标题
A Comprehensive Study on the Effect of TiN Top and Bottom Electrodes on Atomic Layer Deposited Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films
TiN上下电极对原子层沉积铁电Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜影响的综合研究
相关领域
铁电性 锡 材料科学 电极 薄膜 结晶 退火（玻璃） 图层（电子） 原子层沉积 光电子学 纳米技术 化学工程 电介质 复合材料 冶金 化学 工程类 物理化学
网址
https://www.mdpi.com/1996-1944/13/13/2968/pdf?version=159369...
AI链接 mdpi.com mdpi.com nih.gov doaj.org nih.govdoi.org
DOI
10.3390/ma13132968 doi
其它 期刊：Materials
作者：Si Joon Kim; Jaidah Mohan; Harrison Sejoon Kim; Su Min Hwang; Namhun Kim; et al
出版日期：2020-07-02
求助人
高兴的傲薇 在 2025-12-09 16:41:46 发布自河北，悬赏 10 积分
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