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  A Comprehensive Study on the Effect of TiN Top and Bottom Electrodes on Atomic Layer Deposited Ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films TiN上下电极对原子层沉积铁电Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜影响的综合研究
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期刊：Materials 作者：Si Joon Kim; Jaidah Mohan; Harrison Sejoon Kim; Su Min Hwang; Namhun Kim; et al 出版日期：2020-07-02 |
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