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Silicon nitride etching performance of CH2F2plasma diluted with argon or krypton
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网址
https://doi.org/10.7567/jjap.54.040303
DOI
10.7567/jjap.54.040303 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Yusuke Kondo; Kenji Ishikawa; Toshio Hayashi; Yudai Miyawaki; Keigo Takeda; et al
出版日期：2015-03-12
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goudan123 在 2026-01-07 09:53:32 发布自湖北，悬赏 10 积分
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