| 标题 |
 Etching Characteristics and Mechanisms of Mo and Al2O3 Thin Films in O2/Cl2/Ar Inductively Coupled Plasmas: Effect of Gas Mixing Ratios O2/Cl2/Ar电感耦合等离子体中Mo和Al2O3薄膜的刻蚀特性和机理：气体混合比的影响
相关领域
蚀刻（微加工）
分析化学（期刊）
感应耦合等离子体
等离子体
反应离子刻蚀
氩
化学
焊剂（冶金）
混合（物理）
等离子体模型
托尔
材料科学
热力学
图层（电子）
色谱法
有机化学
物理
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Plasma Chemistry and Plasma Processing 作者：Sungchil Kang; Alexander Efremov; Sun Jin Yun; Jin-Young Son; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2013-01-10 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
GingerF
学术文献互助
嗷大喵
chandangfo
虚拟的幻竹
OsamaKareem
ablerHope
Kevin
无极微光
刺猬
大力的灵雁
你瓜连这都没买
Rita
Criminology34
loii
xxt
Hayat
再见当套7
mmyhn
一yi
皖公网安备34019202002308
